工藤 宏人クドウ ヒロト |
|---|
所属学部・学科等
- 化学生命工学部 化学・物質工学科
職名 (資格)
- 教授 2016年 4月 1日
出身学校・専攻
- 東京農工大学 工学部物質生物工学科 1995年 卒業
出身大学院・研究科
- 東京都立大学修士課程 工学研究科工業化学専攻 1997年 修了
- 東京工業大学博士課程 総合理工学研究科物質電子化学専攻 2000年 修了
取得学位
- 博士（工学） 2000年 3月 東京工業大学
ホームページ・メール
- ホームページアドレス：http://www2.kansai-u.ac.jp/kudo-lab/
- メールアドレス：kudoh@kansai-u.ac.jp
専門分野
| 専門分野 | キーワード |
|---|---|
| 高分子化学 | |
| 高分子合成 | |
| 高分子の反応 | |
| 有機化学 | |
| ナノ空間材料 |
研究課題
| 現在の研究課題名 | 新規レジスト材料の開発 |
|---|---|
| 研究態様 | |
| 研究期間 | |
| 研究制度 | |
| キーワード | レジスト;極端紫外線; |
| 研究分野 | |
| 研究テーマ概要 |
| 現在の研究課題名 | 高屈折、低屈折ポリマーの合成とその機能化 |
|---|---|
| 研究態様 | |
| 研究期間 | |
| 研究制度 | |
| キーワード | 高屈折率;低屈折率; |
| 研究分野 | |
| 研究テーマ概要 |
| 現在の研究課題名 | 光熱変換蓄熱材料の合成 |
|---|---|
| 研究態様 | |
| 研究期間 | |
| 研究制度 | |
| キーワード | 蓄熱;光エネルギー; |
| 研究分野 | |
| 研究テーマ概要 |
| 現在の研究課題名 | 屈折率変換材料の合成 |
|---|---|
| 研究態様 | |
| 研究期間 | |
| 研究制度 | |
| キーワード | 屈折率変換; |
| 研究分野 | |
| 研究テーマ概要 |
| 現在の研究課題名 | 環状ポリマーの合成 |
|---|---|
| 研究態様 | |
| 研究期間 | |
| 研究制度 | |
| キーワード | 環状ポリマー; |
| 研究分野 | |
| 研究テーマ概要 |
| 現在の研究課題名 | 動的共有結合化学を利用したラダー型環状化合物類の合成 |
|---|---|
| 研究態様 | |
| 研究期間 | |
| 研究制度 | |
| キーワード | 動的共有結合化学; |
| 研究分野 | |
| 研究テーマ概要 |
| 現在の研究課題名 | 機能性ハイパーブランチポリマーの合成 |
|---|---|
| 研究態様 | |
| 研究期間 | |
| 研究制度 | |
| キーワード | 多分岐ポリマー; |
| 研究分野 | |
| 研究テーマ概要 |
研究経歴
- アミノ酸を基盤とした機能性ポリマーの合成に関する研究で学位を習得。山形大学、博士研究員（１年）。神奈川大、助手、助教、准教授（１１年）現在：特殊構造高分子の合成および光機能性材料の研究を遂行中。
研究職歴
- 山形大学大学院 ベンチャービジネスラボラトリー 講師（中核的研究機関研究員） 2000年4月 1日～2001年3月 31日
- 神奈川大学 助手（工学部 応用化学科） 2001年4月 1日～2007年3月 31日
- 神奈川大学 助教 （工学部 物質生命化学科） 2007年4月 1日～2009年3月 31日
- 神奈川大学 准教授（工学部 物質生命化学科） 2009年4月 1日～2012年3月 31日
- 兵庫県立大学 客員准教授 2011年9月
- 関西大学 化学生命工学部 化学・物質工学科 准教授 2012年4月 1日
- 横浜国立大学 工学府 非常勤講師 高分子化学 担当 2009年4月 1日～2010年9月 30日
- 東京工業大学 非常勤講師 有機・高分子物質特別講義第三（大学院）担当 2012年10月
受賞・学術賞
- 高分子学会「日立化成賞」 2007年 9月 25日 (高分子学会)
- 合成樹脂工業協会・学術奨励賞 2012年 10月 17日 (合成樹脂工業協会)
- 高性能なネットワーク構造の創製を目的とした新規硬化反応の開発・学術賞 2019年 10月 24日 (合成樹脂工業協会)
所属学会
| 所属学会・団体名 | 役職名 (役職在任期間) |
|---|---|
| 高分子学会 | |
| 日本化学会 | |
| アメリカ化学会 |
知的所有権関係
- 高分子および当該高分子の製造方法
- 出願番号：特願2013-096035 (2013年 4月 30日)
産学官連携・共同研究テーマ
- 新規ハイパーブランチポリマーの合成に関する研究
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研究業績
2017～2019年度 関西大学研究拠点形成支援経費研究成果報告書2017～2019年度 関西大学研究拠点形成支援経費研究成果報告書国内共著工藤 宏人;丸山 徹;上田 正人;村山 憲弘;林 順一2020年4月 30日
編著透明高分子材料の高屈折率化と屈折率制御査読無単行本編著工藤 宏人シーエムシー2019年12月 1日
論文Synthesis of hyperbranched polyacetals containing C-(4-t-butylbenz)calix[4] resorcinarene: Resist properties for extreme ultraviolet (EUV) lithography査読有学術雑誌共著Hiroto KudoReactive and Functional Polymers131, 361 – 3672018年8月 30日
論文Synthesis of hyperbranched polyacetals containing C-(4-t-butylbenz)calix[4]resorcinarene: Resist properties for extreme ultraviolet (EUV) lithography査読有学術雑誌共著Kudo Hiroto;;;;;;Reactive & Functional Polymers131, 361 - 3672018年8月 13日
論文Synthesis and Property of Tannic Acid Derivatives and Their Application for Extreme Ultraviolet Laser Lithography System査読有学術雑誌国内共著Hiroto Kudo;Shizuya Ohori;Hiroya Takeda;Hiroki Ogawa;Takeo Watanabe;Hiroki Yamamoto;Takahiro KozawaJ. Photopolym. Sci. Technol31, 221 －2252018年6月
論文Synthesis and Metal-Complexation Ability of Cross-Linking Materials Containing Noria-Templated Cavities with Pendant Carboxylic Acid Groups査読有学術雑誌国際共著Hiroto Kudo;Tsubasa Miyamae;Kouta Kitagawa;Kouhei Isoi;Norihiro Murayama;Jun-Ichi HayashiChemistry Select3, 2223 - 22282018年2月
論文Study on resist performance of noria derivatives modified with various protection ratios of acetal moieties by means of extreme ultraviolet irradiation査読有学術雑誌国内共著Hiroki Yamamoto;Hiroto Kudo;Takahiro KozawaJ. Photopolym. Sci. Technol30, 627 - 6312017年6月
論文Synthesis and Property of Tellurium-Containing Polymer for Extreme Ultraviolet Resist Material査読有学術雑誌国際共著Mari. Fukunaga;Hiroki. Yamamoto;Takahiro. Kozawa;Takeo. Watanabe;Hiroto. KudoJ. Photopolym. Sci. Technol30, 103 - 1072017年6月
論文ε-カプロラクタムとエポキシ樹脂類の熱硬化反応と得られた架橋硬化物の性質査読有学術雑誌国内共著工藤宏人;歩谷健太郎ネットワークポリマー32, 81 -852017年4月
論文Mechanistic study of ring-opening copolymerization of ϵ-caprolactam with epoxide: Development of novel thermosetting epoxy resin system査読有学術雑誌共著Hiroto Kudo、Kentaro BuyaJournal of Polymer Science, Part A: Polymer Chemistry542016年Wiley
論文Synthesis and Properties of Hyperbranched Polyacetals査読有学術雑誌共著Hiroto Kudo, Shuhei Yamamoto, Hiroki YamamotoJournal of Photopolymer Science and Technology28, 125 - 1292015年6月 24日
著書透明ポリマーの材料開発と高性能化査読有その他単著工藤 宏人シーエムシー出版55 -612015年1月
論文Novel Epoxy Thermosetting Resin System using ε-Caprolactam査読有学術雑誌共著KUDO, HirotoChemistry Letters1450 - 14522014年5月 30日
著書「光」の制御技術とその応用 事例集査読無単行本単著工藤 宏人;（株）技術情報協会2014年3月 1日第５節 化学反応による屈折率変換技術
著書第５節 化学反応による屈折率変換技術 査読無その他単著工藤 宏人光」の制御技術とその応用 事例集、（株）技術情報協会227 - 2332014年3月
論文Study on resist performance of chemically amplified molecular resists based on cyclic oligomers査読有学術雑誌共著Hiroki Yamamoto, Hiroto Kudo. Takahiro KozawaMicroelectronic Engineering133, 16 - 222014年2月 5日
論文Synthesis of Cyclic polysulfides: Controlled Ring-Expansion Polymerization of Cyclic tetrathioester with Thiirane査読有学術雑誌共著工藤 宏人;Journal of Polymer Science, Part A: Polymer Chemistry 52, 857 - 8662013年12月 27日Department of Chemistry and Materials Engineering, Faculty of Chemistry, Materials and Bioengineering, Kansai University
論文末端にメタクリロイル残基を有するハイパーブランチポリエーテルの合成とそれらのUV硬化性樹脂への応用査読有学術雑誌共著工藤 宏人;ネットワークポリマー35, No1, 2 - 9 (2014)2013年12月 13日関西大学 化学生命工学部
論文UV硬化性ハイパーブランチポリマーおよび環状オリゴマーの合成と性質査読有学術雑誌単著工藤 宏人;ネットワークポリマー34(5) 233 -244 (2013)2013年8月 16日
著書電子部品用 機能性粘着・接着剤査読無単行本工藤 宏人;シーエムシー出版pp175 -pp1822013年8月 1日第八章「光学特性」
論文Synthesis and Property of Noria (Water-Wheel Like Macrocycle) Derivatives with Pendant Alkoxyl and Adamantyl Ester Groups, and Their Application for Extreme Ultraviolet (EUV) Resist査読有学術雑誌共著工藤宏人;新名伸光;老泉博昭;井谷 俊郎;西久保 忠臣;Thin Solid Films534, 459 - 4642013年5月 1日
論文極端紫外線用分子レジスト材料の開発査読有学術雑誌単著工藤 宏人;日本接着学会誌49(6) 211 - 223 (2013) 2013年3月 18日
論文Extreme Ultraviolet Resist Fabricated Using Water Wheel-Like Cyclic Oligomer with Pendant Adamantyl Ester Groups学術雑誌工藤宏人;関浩之;老泉博昭;井谷 俊郎;西久保 忠臣;Jpn. J. Appl. Phys.50, 121602-1-62012年12月 1日
論文Impregnation of waterwheel supramolecules as proton carriers in Nafion-perfluorinated ionomer membranes学術雑誌Nadzrinahamin. A. Nazir;工藤宏人;西久保 忠臣;Thein Kyu;J Mater Sci.47, 7269–7279 2012年10月
論文動的共有結合化学システムによるラダー型環状オリゴマーの合成と、それらを基盤とした光機能性材料（UV硬化樹脂・分子レジスト）への応用査読有学術雑誌共著工藤宏人;西久保 忠臣;有機合成化学協会誌５月号（総合論文）vol. 70, 492-5072012年6月 4日
論文Extreme Ultraviolet (EUV)-Resist Material Based on Noria (Water Wheel-like Macrocycle ) Derivatives with Pendant Alkoxyl and Adamantyl Ester Groups学術雑誌工藤宏人;新名伸光;老泉博昭;井谷 俊郎;西久保 忠臣;J. Photopolym. Sci. Technol.25(5), 587 -5922012年6月
論文Synthesis of hyperbranched fluorinated polymers with controllable refractive indices学術雑誌宮坂 誠;小池 直之;藤原 祐介;工藤宏人;西久保 忠臣;Polymer Journal43, 325-3292011年12月 1日
論文Synthesis and Property of Tellurium-containing Polymers Obtained by SimpleCondensation Reaction of Tetrachlorotellurium and 1,3-Dimethoxybenzene査読有学術雑誌共著工藤 宏人;石原 秀篤;富田 雅志;Chemistry Letters40, 762-7642011年7月 5日
論文 Condensation Reaction of Phenols with 1,5-Pentanedial for Synthesis of Noria-like Ladder-cyclic Oligomer by Dynamic Covalent Chemistry Mechanism学術雑誌工藤宏人;桑原 慎吾;関浩之;西久保 忠臣;Chemistry Letters,40, 464 - 4662011年2月 1日
論文Multicomponent negative-type photoresist based on Noria analog with 12 ethoxy groups学術雑誌新名伸光;工藤宏人;丸山 研;甲斐 俊之;下川 努;老泉博昭;井谷 俊郎;西久保 忠臣;Polymer Journal 43, 407-4132011年1月 15日
論文Synthesis of polycarbosilanes by A2 + Bn (n = 2, 3, and 4) type hydrosilylation reaction and evaluation of their refractive index properties学術雑誌工藤宏人;藤原 祐介;宮坂 誠;西久保 忠臣;Journal of Polymer Science, Part A: Polymer Chemistry48, 5746 - 57512010年12月 15日
論文Negative-type extreme ultraviolet resist materials based on water-wheel-like cyclic oligomer (noria)学術雑誌関浩之;加藤 由貴;工藤宏人;老泉博昭;井谷 俊郎;西久保 忠臣;Jpn. J. Appl. Phys49, 06GF06 1-62010年11月 30日
論文Synthesis of hyperbranched polycarbonate by novel polymerization of di-tert-butyl tricarbonate with 1,1,1-tris(4-hydroxyphenyl)ethane学術雑誌宮坂 誠;高添 太地;工藤宏人;西久保 忠臣;Polymer Journal 42, 852-8592010年11月 12日
論文Controlled Insertion Reaction of Thiirane into Carbamothioate: Novel Synthesis of Well-Defined Polysulfide学術雑誌工藤宏人;佐藤 憲一郎;西久保 忠臣;Macromolecules43(23), 9655-96592010年11月 1日
論文Model reactions of calixarenes and their esterified derivatives with glycidyl phenyl ether for thermal curing reactions of epoxy resins学術雑誌Shengang Xu;工藤宏人;西久保 忠臣;中村 真也;沼田 秀一;Polymer Journal42 (6) 456 - 4632010年10月 25日
論文Synthesis of a photocrosslinkable hyperbranched polyester containing methacryloyl groups by the reaction of 1,4-bis(chloromethyl)benzene with 1,3,5-benzenetricarboxylic acid followed by reaction with methacrylic acid学術雑誌丸山 研;平林 俊之;工藤宏人;西久保 忠臣;Polymer Journal 42(10), 790-7942010年10月 15日
論文Synthesis and characterization of hyperbranched polymer consisting of silsesquioxane derivatives学術雑誌宮坂 誠;藤原 祐介;工藤宏人;西久保 忠臣;Polymer Journal 42(10), 799-8032010年10月 1日
論文Novel extreme ultraviolet (EUV)-resist material based on noria (water wheel-like cyclic oligomer)学術雑誌工藤宏人;陶山 裕二;老泉博昭;井谷 俊郎;西久保 忠臣;Journal of Materials Chemistry20(21), 4445-44502010年10月 1日
論文Synthesis and Photo-Cross-Linking Reaction of Noria Derivatives Containing Photoreactive Groups学術雑誌工藤宏人;新名伸光;林 理英子;小島 健;西久保 忠臣;Macromolecules43(10), 4822-48262010年10月 1日
論文Thermal cured epoxy resins using certain calixarenes and their esterified derivatives as curing agents学術雑誌Shengang Xu;工藤宏人;工藤宏人;中村 真也;沼田 秀一;Journal of Polymer Science, Part A: Polymer Chemistry48(9), 1931-19422010年9月 25日
論文Refractive index changes of thin films of photoreactive α-, β-, and γ-cyclodextrin derivatives upon photoirradiation学術雑誌工藤宏人;井上 直美;西久保 忠臣;Thin Solid Films518(12), 3204-32112010年8月 1日
論文Extreme Ultraviolet (EUV)-Resist Materials of Noria (Water Wheel-Like Cyclic Oligomer) Derivatives containing Acetal Moieties学術雑誌工藤宏人;神宮寺 真由美;西久保 忠臣;老泉博昭;井谷 俊郎;J. Photopolym. Sci. Technol23(5) 657 - 6642010年6月 24日
論文Synthesis and Photo-Cross-Linking Reaction of Noria Derivatives Containing Photoreactive Groups査読有学術雑誌共著工藤宏人;新名伸光;林 理英子;小島 健;西久保 忠臣;Macromolecules43(10), 4822-48262010年4月 28日
論文Synthesis of Noria-like Macrocycles Containing Alkoxy Groups based on a Dynamic Covalent Chemistry (DCC) System by the A2 + B4 Condensation学術雑誌新名伸光;工藤宏人;西久保 忠臣;Chemistry Letters38(12), 1198 - 11992009年2月 1日
論文Synthesis and Resist Properties of Calixarene Polymers with Pendant Haloalkyl Groups査読有学術雑誌共著KUDO, Hiroto;OGAWA, Hiroki;YAMAMOTO, Hiroki;KOZAWA, TakahiroJournal of Photopolymer Science and Technology29The Society of Photopolymer Science and Technology
論文Synthesis of hyperbranched polyacetals via An + B2-type polyaddition (n = 3, 8, 18, and 21): Candidate resists for extreme ultraviolet lithography査読有学術雑誌共著Hiroto Kudo, Shuhei Yamamoto, Hiroki Yamamoto, Takahiro KozawaJournal of Polymer Science, Part A: Polymer Chemistry53, 2343 -2350
論文Calixarene-polymers via Simple Polymerization of t-Butylcalix[8]arenes (A8-type Monomer) with Hexamethylene Diisocyanate (B2-type Monomer); Molecular Bunch of Grapes (Botryosin)Hiroto Kudo, Motohiro Shizuma, Kosuke Kubo,Tomohiro HayashiChemistry Letters44, 1765 -1767
論文Feet-to-Feet Connected Trisresorcinarenes査読有学術雑誌共著工藤 宏人;下山 大介;関谷 亮;灰野 岳治Organic Lettersahead of printThe macrocyclization of resorcinol and odd-numbered bisdioxolanes under acidic conditions produced feet-to-feet connected trisresorcinarenes possessing three resorcinarene units linked with odd-numbered alkyl chains. The formation of trisresorcinarenes was confirmed using high-resoln. mass spectrometry and NMR spectroscopy. The trisresorcinarenes were isolated as protected forms in moderate yields. The protected trisresorcinarenes exhibited D3h symmetry in conformation in soln. Crystal structure anal. revealed that the protected trisresorcinarenes possess large inner spaces surrounded by three resorcinarene units.
論文Synthesis and Property of Tellurium-Containing Molecular Resist Materials for Extreme Ultraviolet Lithography System査読有学術雑誌共著工藤 宏人;福永 真理;山田 哲平;山川 真二;渡邊 健夫;山本 洋揮;岡本 一将;古澤 孝弘Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｅｃｅ2019、Ｎｏ６ Ahead of PrintWe examined the synthesis and resist properties of tellurium-containing molecular resist materials. By the condensation reaction of anisol, phenol, and 2-phenylphenol with tellurium tetrachloride (TeCl4), dichloro di(4-hydroxyphenyl) telluride (CHPT), dichloro di(4-hydroxy-3-phenylbenz) telluride (CHBT), di(4-hydroxyphenyl) telluride (HPT), and di(4-hydoxy-3-phenylbenz) telluride (HBT) were synthesized. These were reacted with 2-methyl-2-adamantyl bromo acetate, yielding corresponding compounds CHPT-AD, CHBT-AD, HPT-AD, and HBT-AD, respectively. By the examination of resist properties (thickness loss property, resist sensitivity, and etching durability), CHBT-AD could be good candidate for higher resolution EUV resist material.
項目執筆屈折率変化材料の開発査読無単行本分担執筆工藤 宏人シーエムシー ・ 透明高分子材料の高屈折率化と屈折率制御第二章 ４